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機械拋光
機械拋光是靠切削、材(cái)料表麵塑性變形(xíng)去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光(guāng)方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂(shā)紙等,以手(shǒu)工操作(zuò)為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等(děng)輔助工具,表麵質量要(yào)求高的可采用超(chāo)精研拋的方法。超精研拋是采用(yòng)特製的磨具,在含有磨料的研拋液(yè)中,緊壓(yā)在工件(jiàn)被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到 Ra0.008 μ m 的(de)表麵粗糙度(dù),是(shì)各種拋光方法中最(zuì)高(gāo)的。光學鏡片模具常采用這種方法。

化學拋光
化學拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表麵(miàn)微觀凸出的(de)部分較凹部分優先溶解(jiě),從而(ér)得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需(xū)複雜設備,可(kě)以拋光形狀複雜的工件,可(kě)以同時拋光很多工件,效率高(gāo)。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋(pāo)光得(dé)到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。
電解(jiě)拋光
電解拋(pāo)光基本原理與化學(xué)拋光相(xiàng)同,即靠(kào)選擇(zé)性的溶解材料表麵微小(xiǎo)凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相(xiàng)比,可以消(xiāo)除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光過(guò)程分為兩步:
1、宏觀整平溶解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降, Ra > 1 μ m 。
2、微光平整陽極極化,表麵(miàn)光亮度提高, Ra < 1 μ m 。
超(chāo)聲(shēng)波拋光(guāng)
將(jiāng)工件放入磨料懸浮(fú)液中並一起置於超聲(shēng)波場中,依靠超(chāo)聲波的振(zhèn)蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小(xiǎo),不會引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超聲波加(jiā)工可以與化學或電化學(xué)方法結合。在溶液(yè)腐蝕、電解的基(jī)礎上,再施加超(chāo)聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物脫離,表麵(miàn)附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的(de)空化作用還能夠抑製腐(fǔ)蝕過程(chéng),利於表麵光亮化。
流(liú)體拋光
流體拋光是依靠高(gāo)速流動的液體及其(qí)攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料(liào)噴射加工、液體噴射加(jiā)工、流體動力研磨等。流體動(dòng)力研(yán)磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件表(biǎo)麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用(yòng)碳化矽粉末。
磁研磨拋光
磁研(yán)磨拋光(guāng)是利用(yòng)磁(cí)性磨料在(zài)磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以(yǐ)達到 Ra0.1 μ m 。
在塑(sù)料模具加工中所說的拋光與其他行業(yè)中所要求的表(biǎo)麵拋光有很大的不同,嚴(yán)格來說(shuō),模具(jù)的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻(zhī)要求獲得光亮的表麵即可。模具大師微信(xìn):1828765339 鏡麵加工的標準分為四級: AO=Ra0.008 μ m , A1=Ra0.016 μ m , A3=Ra0.032 μ m , A4=Ra0.063 μ m ,由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件的幾何精確度,而化學拋光、超聲波拋光(guāng)、磁(cí)研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要求,所以精密模具的(de)鏡麵加工還是以機械拋光為主。
機(jī)械拋(pāo)光基本程序
要想獲得高質量的拋光(guāng)效果,最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙(zhǐ)和鑽石研磨(mó)膏等拋(pāo)光工具(jù)和輔助(zhù)品。而拋光程序的選擇取決於前期(qī)加工後的表麵(miàn)狀況,如機械加工、電(diàn)火花加工(gōng),磨加工等等(děng)。機械拋光(guāng)的一般過程如下:
1、粗拋
經銑、電火花、磨等工藝後(hòu)的表麵可以(yǐ)選(xuǎn)擇轉速在 35 000 — 40 000 rpm 的旋轉表麵拋(pāo)光(guāng)機或超聲波研磨機進行拋光(guāng)。常用的方(fāng)法有利用直徑Φ 3mm 、 WA # 400 的輪(lún)子去除白色電火花層。然(rán)後是手工油石研磨,條狀(zhuàng)油石加煤(méi)油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為 #180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 。許多模具製造(zào)商(shāng)為了節約(yuē)時間而選擇從 #400 開始。
2、半精拋
半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙(zhǐ)的(de)號數依次為: #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500 。實際上 #1500 砂紙隻用適於淬硬的模具鋼(52HRC 以上),而不(bú)適用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件(jiàn)表麵燒傷。
3、精(jīng)拋
精拋主要使用鑽石研磨膏。若用(yòng)拋光布輪混(hún)合鑽石(shí)研磨粉或研磨膏進行研(yán)磨的話,則通常的研(yán)磨順(shùn)序是 9 μ m (#1800 ) ~ 6 μ m (#3000 ) ~3 μ m (#8000 )。 9 μ m 的鑽石研磨膏(gāo)和拋光布輪可用來去除 #1200 和 #1500 號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨(mó)膏進行拋光,順序為 1 μ m (#14000 ) ~ 1/2 μ m (#60000 ) ~1/4 μ m (#100000 )。
精度要求在 1 μ m 以上(包括 1 μ m )的拋光工藝在模(mó)具加工車(chē)間中一個清潔的拋光室內即可進行。若進行更加(jiā)精密的拋光則必需一(yī)個絕對(duì)潔淨的空間。灰塵、煙(yān)霧(wù),頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個(gè)小時工作後得到的高精密拋光表麵。
機械拋光(guāng)中要注意的問題
用砂紙拋光應注意以下幾點:
1、用砂紙拋光(guāng)需要利用軟的木(mù)棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時,使用軟(ruǎn)木棒可(kě)更好的配合圓麵和球麵的弧(hú)度。而較硬的木條(tiáo)像櫻桃木,則更適用於平整(zhěng)表麵的拋光。修整木條的末端使其能與鋼件表麵形狀保持吻合,這樣可以避免木條(或竹條)的銳角(jiǎo)接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。
2、當(dāng)換用不同型號的砂紙時,拋光方向(xiàng)應變換 45 ° ~ 90 °,這樣(yàng)前一種型(xíng)號砂紙(zhǐ)拋光後留(liú)下的條紋陰影即可(kě)分辨出來。在換不同型號砂紙之前,必須用 100 %純(chún)棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭,因為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂(shā)紙(zhǐ)拋光換成鑽(zuàn)石研磨膏拋光(guāng)時,這個清潔過程同樣重要(yào)。在拋光繼續進行之前,所有顆粒(lì)和煤油都必須被完全清潔幹(gàn)淨。
3、為了避免擦傷和燒(shāo)傷工(gōng)件表麵,在用 #1200 和 #1500 砂紙進行拋光時必(bì)須特別小心。因而有必要加載一個輕載荷以(yǐ)及(jí)采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的砂紙進行拋光時都應沿兩個不同方向(xiàng)進行兩次拋光,兩個方向之間每次轉動 45 ° ~ 90 °。
鑽石研磨拋光應注意以下幾點:
1、這種拋光(guāng)必須盡量在較輕的壓力下進(jìn)行特別是拋光預硬鋼件和用細(xì)研磨膏拋(pāo)光時。在用 #8000 研(yán)磨膏拋光時,常用載荷為 100~200g/cm2 ,但要保持此載荷的精準度很難做到。為了更容(róng)易做到這一點,可以在木條上做一個薄且窄的手柄,比如加一銅片;或者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可(kě)以幫助控製拋光壓力,以確保模具表(biǎo)麵壓力不會過高。
2、當使用鑽石研磨拋光時,不僅是工作表麵要(yào)求潔淨(jìng),工作者的雙手也必(bì)須仔細清潔。
3、每次拋(pāo)光時間不應過長,時間越短,效果越好。如果拋(pāo)光(guāng)過(guò)程進行得過長將會造成“橘皮”和“點(diǎn)蝕(shí)”。
4、為獲得高質量的拋光效果,容易發熱的拋光方法和工具都應(yīng)避免。比如:拋光輪拋光,拋光輪產(chǎn)生的熱量會很容易造成“橘皮(pí)”。
5、當拋光過程停止時,保證工件表麵潔淨和仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重要,隨後(hòu)應在表麵噴淋一層模(mó)具(jù)防鏽(xiù)塗層。
由於機械拋光(guāng)主要還是靠人工完成,所以拋光技術目前還(hái)是(shì)影響拋(pāo)光質量的主要原因。除此之外,還與模具材料、拋光前的(de)表麵狀況、熱處(chù)理工藝等(děng)有關。優質的鋼材是(shì)獲得良(liáng)好拋光質量(liàng)的前提條件,如果鋼材表麵硬(yìng)度不均或特性上有差異,往往會(huì)產生拋光困難。鋼材中的各種夾雜(zá)物和氣孔都(dōu)不利於拋光。
不同硬度對拋(pāo)光工藝的影響
硬度增高使研磨的困難增大,但(dàn)拋光後的粗糙度減小。由於硬度的(de)增高,要達到較低的粗糙度所(suǒ)需的(de)拋光時間相應增長。同(tóng)時硬度增高,拋光過度的(de)可能性相應減少。
工件(jiàn)表麵狀況對拋光工藝的影響
鋼材在切削機械(xiè)加工的破碎過程中(zhōng),表層會因熱量、內應力或其他因素而損壞,切削參數不當會影響拋光效果。電火花加工後(hòu)的表麵比普通(tōng)機械加工或熱處理後的表(biǎo)麵更難(nán)研磨,因此(cǐ)電火花加工結束前應采用精(jīng)規準電火花修(xiū)整(zhěng),否則表麵會形成硬化薄層(céng)。如果電火花精修規準選擇不當,熱影響層(céng)的深度最(zuì)大可達(dá) 0.4mm 。硬化薄層的硬度比基體硬度高,必須去除。因此最好增加一道粗磨加工(gōng),徹底清除損壞表麵層,構成(chéng)一片平均粗糙的金屬麵,為拋光加工提供一個良好基礎。
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