塑料（liào）成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很（hěn）大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不（bú）僅對拋光

本身（shēn）有很高的（de）要求，而且對表麵平整度（dù）、的平滑度和幾何精度也有很高（gāo）的標準。表麵拋光通常僅需要光澤（zé）表麵。鏡像處（chù）理標準

分為（wéi）四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過（guò）程中，它是難以準確地控製各部分的（de）幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋（pāo）光、磁性拋光的、表（biǎo）麵質（zhì）量不是必需的，精密模具主要是（shì）基（jī）於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光（guāng）主要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要（yào）製作金剛石膏。通常的磨削（xuē），以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼（ké）體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開（kāi）頭發的痕跡，拋光布為9um的（de）金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米（mǐ）或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕（jué）對清潔的空間，用於拋光（guāng）模具。灰塵（chén）、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵（miàn），可在工作（zuò）數小時後（hòu）獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋（pāo）光效果，最重要的是要有高質量的拋光工具和（hé）砂紙和研磨膏等（děng）配件。最重要的（de）是一個複（fù）雜的（de）工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序（xù）的選擇取（qǔ）決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程（chéng）如下。粗拋（pāo）、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直徑為（wéi）3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和（hé）煤油條作為潤滑劑（jì）或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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